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华海清科申请一种晶圆抛光方法、抛光装置和处理设备专利,提高特定晶圆的化学机械抛光效率:抛光

金融界2025年6月20日消息,国家知识产权局信息显示,华海清科股份有限公司申请一项名为“一种晶圆抛光方法、抛光装置和处理设备”的专利,公开号CN120170629A,申请日期为2025年05月抛光

专利摘要显示,本发明提供一种晶圆抛光方法、抛光装置和处理设备,晶圆抛光方法用于包括摩擦系数接近的第一层和第二层的目标层的去除,一次抛光过程包括第一抛光阶段及第二抛光阶段,包括:确定第一时间;确定晶圆在第二抛光阶段的材料去除量和材料去除率;计算第二时间;根据第二时间调整第一时间以获得第三时间;抛光当前晶圆,根据第三时间执行第一抛光阶段,和根据第二时间执行第二抛光阶段,以使得所述第二层达到目标厚度抛光

天眼查资料显示,华海清科股份有限公司,成立于2013年,位于天津市,是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业抛光 。企业注册资本23672.4893万人民币。通过天眼查大数据分析,华海清科股份有限公司共对外投资了10家企业,参与招投标项目225次,财产线索方面有商标信息67条,专利信息704条,此外企业还拥有行政许可30个。

来源:金融界

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