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上海新昇半导体申请缺口抛光装置及抛光设备专利 可适配与晶圆缺口的抛光:抛光

金融界2025年8月9日消息,国家知识产权局信息显示,上海新昇半导体科技有限公司申请一项名为“缺口抛光装置及抛光设备”的专利,公开号CN120439183A,申请日期为2025年06月抛光

专利摘要显示,本发明涉及半导体技术领域,提供了一种缺口抛光装置及抛光设备,所述缺口抛光装置包括:抛光体和内衬件;所述抛光体具有呈圆环形的抛光面;所述内衬件设置于所述抛光体的内部,所述内衬件的硬度大于所述抛光体的硬度;沿所述抛光面的径向方向,所述内衬件距离所述抛光面具有设定距离抛光 。通过抛光装置的改进,可适配与晶圆缺口的抛光,以使得缺口位置处达到预计的去除量,保证抛光质量。

天眼查资料显示,上海新昇半导体科技有限公司,成立于2014年,位于上海市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业抛光 。企业注册资本238000万人民币。通过天眼查大数据分析,上海新昇半导体科技有限公司共对外投资了2家企业,参与招投标项目2065次,财产线索方面有商标信息14条,专利信息706条,此外企业还拥有行政许可222个。

来源:金融界

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