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应用材料公司申请化学机械抛光的温度控制专利,保持基板抵靠抛光垫的抛光表面:抛光

金融界2025年7月16日消息,国家知识产权局信息显示,应用材料公司申请一项名为“化学机械抛光的温度控制”的专利,公开号CN120307185A,申请日期为2019年06月抛光

专利摘要显示,一种化学机械抛光设备包括压板、载体、分配器和温度控制系统,压板保持抛光垫,载体在抛光工艺期间保持基板抵靠抛光垫的抛光表面,分配器向抛光表面供应抛光液,温度控制系统包含主体,所述主体经配置以接触抛光表面或抛光表面上的抛光液抛光 。主体支撑定位在抛光垫上的热控制模块。

来源:金融界

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