金融界2025年8月1日消息，国家知识产权局信息显示，浙江森永光电设备有限公司申请一项名为“一种基于高速高压CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机”的专利，公开号CN120395675A，申请日期为2025年06月抛光机。

专利摘要显示，本发明公开了一种基于高速高压CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机，属于碳化硅用抛光技术领域，设置有用于支撑的抛光机基座，且抛光机基座侧面安装有控制箱；包括：抛光液筒，安装于所述抛光机基座上侧，且抛光机基座上侧安装有抛光室，并且抛光室的上侧安装有防尘室，同时抛光液筒设置有冷却循环机构抛光机。该基于高速高压CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机，设置有旋转板组装的吸附座进行等角度设置，可实现自动上下料，有效地提升碳化硅晶片抛光效率，满足产线自动化的要求，并搭配成熟的机械手机构，可以完成产线自动化加工，并保证抛光件不产生台阶，且抛光时配合径向来回移动，提高产品的表面精度。

天眼查资料显示，浙江森永光电设备有限公司，成立于2011年，位于嘉兴市，是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业抛光机。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析，浙江森永光电设备有限公司共对外投资了1家企业，参与招投标项目4次，财产线索方面有商标信息3条，专利信息52条。

来源：金融界