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森永光电申请碳化硅专用双面抛光机专利,可实现自动上下料:抛光机

金融界2025年8月1日消息,国家知识产权局信息显示,浙江森永光电设备有限公司申请一项名为“一种基于高速高压CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机”的专利,公开号CN120395675A,申请日期为2025年06月抛光机

专利摘要显示,本发明公开了一种基于高速高压CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机,属于碳化硅用抛光技术领域,设置有用于支撑的抛光机基座,且抛光机基座侧面安装有控制箱;包括:抛光液筒,安装于所述抛光机基座上侧,且抛光机基座上侧安装有抛光室,并且抛光室的上侧安装有防尘室,同时抛光液筒设置有冷却循环机构抛光机。该基于高速高压CMP抛光技术的碳化硅专用双面抛光机,设置有旋转板组装的吸附座进行等角度设置,可实现自动上下料,有效地提升碳化硅晶片抛光效率,满足产线自动化的要求,并搭配成熟的机械手机构,可以完成产线自动化加工,并保证抛光件不产生台阶,且抛光时配合径向来回移动,提高产品的表面精度。

天眼查资料显示,浙江森永光电设备有限公司,成立于2011年,位于嘉兴市,是一家以从事计算机、通信和其他电子设备制造业为主的企业抛光机。企业注册资本500万人民币。通过天眼查大数据分析,浙江森永光电设备有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目4次,财产线索方面有商标信息3条,专利信息52条。

来源:金融界

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